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日本EHC 平行光曝光系統HTE-510-EHC
平行光曝光系統
設計緊湊的平行光曝光系統。
這種準直鏡式平行光曝光系統使用一個(gè)超高壓汞燈作為點(diǎn)光源。 主要部件由光源、吸式曝光臺和面罩單元組成,曝光方式可以是真空接觸(硬接觸)曝光方式。 也可根據要求提供接近系統。
對于曝光控制,安裝了一個(gè)集成的測光表,以方便設置正確的曝光量。
基本信息
日本EHC 平行光曝光系統HTE-510-EHC
基本規格。
工件尺寸:150毫米×150毫米,厚度約0.1 - 1.0毫米
光學(xué)性能:超高壓汞燈1KW(風(fēng)冷),波長(cháng)約300-470納米(主波長(cháng)365、405、436納米)。
紫外線(xiàn)照度約為40 mw/cm^2的初始值(@365 nm),照度分布為90% min。
射線(xiàn)平行度:準直半角≤1.5°,傾角≤1.0°。
曝光快門(mén):用空氣驅動(dòng)的快門(mén)打開(kāi)/關(guān)閉
曝光控制:取決于集成測光表(控制波長(cháng)為365納米),20通道記憶
面罩(基本): □8英寸玻璃面罩,3.0毫米或5.0毫米厚
曝光臺:吸氣臺,前/后可移動(dòng),內置真空泵
上層框架類(lèi)型:專(zhuān)用玻璃罩框架或麥拉框架
公用設施:電源3相200V 50/60 Hz,斷路器開(kāi)關(guān)30A,10.5KVA
壓力空氣約0.5 Mpa
廢氣:約8 m^3/min
外部尺寸:(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm